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        儀器設備

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        Zeiss Ultra Plus型場發射掃描電鏡

        作者:        發布于:2013-10-10

          

            型號:ULTRA PLUS-43-13

          生產國別廠家:德國蔡司光學儀器  

          1. 電子光學系統

          原理:場發射掃描電鏡是利用聚焦電子束與樣品表面作用產生的二次電子、背散射電子等物理信號得到表面形貌圖像以及樣品相關信息。該電鏡適用于分析和觀察樣品表面及近表面形貌及結構;其較高的電子束流,更適合與X射線能譜儀及背散射電子衍射儀相結合,對樣品的組成、表面織構等做出分析。

          主要技術指標:

          二次電子像分辨率:1.0nm(15kV),1.9nm(1kV)

          電子槍:LaB6熱場發射電子槍

          加速電壓:0.1 ~ 30kV

          束流范圍:12-12~10-7 A

          圖像放大倍數:12~1000,000×(二次電子像),100~1000.000×(背散射電子像)


         2. X射線能譜系統   

          X射線顯微分析系統(能譜儀)(EDS):作為電子探針的附件配置在ULTRA PLUS-43-13型電子探針上使用

          原理:用細聚焦電子束入射樣品表面,激發出樣品微區(微米級)元素的特征X射線,分析特征X射線的或特征能量即可知道微區中所含元素的種類(定性分析), 分析X射線的強度,則可知道微區中對應元素含量的多少(半定量分析)。

          型號:X-Max 50型電制冷能譜儀 

          生產國別廠家: 英國牛津儀器公司 

          主要技術指標:分辨率:優于127eV;MK峰背比:20,000:1; 穩定性:1,000cps~100,000cps時,譜峰漂移<1eV,分辨率變化<1eV,48小時內譜峰漂移<1.5eV(Mn Kα)

          元素探測范圍:探測到低至鈹(包括鈹)的所有元素

          主要用途:元素的定性分析、線、面分布等,X-Max 50型電制冷能譜儀無需添加液氮,方便快捷,具有圖像及成分圖的能譜分析系統,具有分辨率高等特點??蓪腆w材料的表面涂層、鍍層進行分析,進行材料表面微區成分的定性和半定量分析,在材料表面做元素的面、線、點分布分析。


        3. 電子背散射衍射圖像采集系統

          電子背散射衍射儀(EBSD):作為附件配置在ULTRA PLUS-43-13場發射掃描電鏡上,為分析樣品晶粒取向分布、織構等信息提供支持。

          原理:基于掃描電鏡中電子束在傾斜樣品表面激發出并形成的衍射菊池帶的分析,從而得到晶體結構、取向及相關信息。

          型號:HKL Max

          生產國別廠家:英國牛津儀器公司

          主要技術指標:EBSD花樣分辨率達640×480像素;高靈敏度(加速電壓>3kV,束流>500pA即可得到明顯衍射花樣);最大在線標定解析速度≥640點/秒 

         

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